TaC ಲೇಪಿತ ಡೀಪ್ UV LED MOCVD ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಸಸೆಪ್ಟರ್

ಸಂಕ್ಷಿಪ್ತ ವಿವರಣೆ:

ಸೆಮಿಸೆರಾದಿಂದ TaC ಲೇಪಿತ ಡೀಪ್ UV LED MOCVD ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಸಸೆಪ್ಟರ್ ಅನ್ನು MOCVD ಎಪಿಟಾಕ್ಸಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್‌ಗಳಲ್ಲಿ ಉತ್ತಮ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಗಾಗಿ ವಿನ್ಯಾಸಗೊಳಿಸಲಾಗಿದೆ. ಚೀನಾದಲ್ಲಿ ತಯಾರಿಸಲ್ಪಟ್ಟಿದೆ, ಇದು ವರ್ಧಿತ ಬಾಳಿಕೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ, ಇದು ಬೇಡಿಕೆಯ ಪರಿಸ್ಥಿತಿಗಳಿಗೆ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ. ಸೆಮಿಸೆರಾದ ಸುಧಾರಿತ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವು ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹ ಮತ್ತು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯನ್ನು ಖಾತ್ರಿಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, ಉತ್ತಮ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಡೀಪ್ ಯುವಿ ಎಲ್ಇಡಿ ಉತ್ಪಾದನೆಯನ್ನು ಬೆಂಬಲಿಸುತ್ತದೆ.


ಉತ್ಪನ್ನದ ವಿವರ

ಉತ್ಪನ್ನ ಟ್ಯಾಗ್‌ಗಳು

TaC ಲೇಪಿತಆಳವಾದ ನೇರಳಾತೀತ ಎಲ್ಇಡಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಬೇಸ್ ಅನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವ ಮೂಲಕ ಸಾಧನದ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುವ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಸೂಚಿಸುತ್ತದೆTaC ಲೇಪನಆಳವಾದ ನೇರಳಾತೀತ ಎಲ್ಇಡಿ ಸಾಧನದ ತಯಾರಿಕೆಯ ಸಮಯದಲ್ಲಿ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಬೇಸ್ನಲ್ಲಿ. ಈ ಲೇಪನವು ಶಾಖದ ಹರಡುವಿಕೆಯ ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರತಿರೋಧ ಮತ್ತು ಸಾಧನದ ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಎಲ್ಇಡಿ ಸಾಧನದ ದಕ್ಷತೆ ಮತ್ತು ವಿಶ್ವಾಸಾರ್ಹತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ. ಆಳವಾದ ನೇರಳಾತೀತ ಎಲ್ಇಡಿ ಸಾಧನಗಳನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಕೆಲವು ವಿಶೇಷ ಕ್ಷೇತ್ರಗಳಲ್ಲಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಉದಾಹರಣೆಗೆ ಸೋಂಕುಗಳೆತ, ಬೆಳಕಿನ ಕ್ಯೂರಿಂಗ್, ಇತ್ಯಾದಿ, ಇದು ಸಾಧನದ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಗೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಅವಶ್ಯಕತೆಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ. ನ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್TaC ಲೇಪಿತ ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ಬೇಸ್ ಸಾಧನದ ಬಾಳಿಕೆ ಮತ್ತು ಕಾರ್ಯಕ್ಷಮತೆಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ, ಆಳವಾದ ನೇರಳಾತೀತ ಎಲ್ಇಡಿ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಪ್ರಮುಖ ಬೆಂಬಲವನ್ನು ನೀಡುತ್ತದೆ.

 

ಸೆಮಿಸೆರಾ ವಿವಿಧ ಘಟಕಗಳು ಮತ್ತು ವಾಹಕಗಳಿಗೆ ವಿಶೇಷವಾದ ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (TaC) ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಒದಗಿಸುತ್ತದೆ.ಸೆಮಿಸೆರಾ ಪ್ರಮುಖ ಲೇಪನ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆ, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಸ್ಥಿರತೆ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ರಾಸಾಯನಿಕ ಸಹಿಷ್ಣುತೆಯನ್ನು ಸಾಧಿಸಲು ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ (TaC) ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುತ್ತದೆ, SIC/GAN ಹರಳುಗಳು ಮತ್ತು EPI ಪದರಗಳ ಉತ್ಪನ್ನದ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ (ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಲೇಪಿತ TaC ಸಸೆಪ್ಟರ್), ಮತ್ತು ಪ್ರಮುಖ ರಿಯಾಕ್ಟರ್ ಘಟಕಗಳ ಜೀವನವನ್ನು ವಿಸ್ತರಿಸುವುದು. ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ TaC ಲೇಪನದ ಬಳಕೆಯು ಅಂಚಿನ ಸಮಸ್ಯೆಯನ್ನು ಪರಿಹರಿಸಲು ಮತ್ತು ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು, ಮತ್ತು ಸೆಮಿಸೆರಾ ಟ್ಯಾಂಟಲಮ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು (CVD) ಪರಿಹರಿಸಿದೆ, ಇದು ಅಂತರರಾಷ್ಟ್ರೀಯ ಸುಧಾರಿತ ಮಟ್ಟವನ್ನು ತಲುಪಿದೆ.

 

ವರ್ಷಗಳ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಯ ನಂತರ, ಸೆಮಿಸೆರಾ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ವಶಪಡಿಸಿಕೊಂಡಿದೆCVD TaCಆರ್ & ಡಿ ಇಲಾಖೆಯ ಜಂಟಿ ಪ್ರಯತ್ನಗಳೊಂದಿಗೆ. SiC ವೇಫರ್‌ಗಳ ಬೆಳವಣಿಗೆಯ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯಲ್ಲಿ ದೋಷಗಳು ಸಂಭವಿಸುವುದು ಸುಲಭ, ಆದರೆ ಬಳಸಿದ ನಂತರTaC, ವ್ಯತ್ಯಾಸವು ಗಮನಾರ್ಹವಾಗಿದೆ. ಕೆಳಗೆ TaC ನೊಂದಿಗೆ ಮತ್ತು ಇಲ್ಲದೆ ವೇಫರ್‌ಗಳ ಹೋಲಿಕೆ ಇದೆ, ಹಾಗೆಯೇ ಏಕ ಸ್ಫಟಿಕ ಬೆಳವಣಿಗೆಗಾಗಿ ಸಿಮಿಸೆರಾ ಭಾಗಗಳು.

微信图片_20240227150045

TaC ಜೊತೆಗೆ ಮತ್ತು ಇಲ್ಲದೆ

微信图片_20240227150053

TaC ಬಳಸಿದ ನಂತರ (ಬಲ)

ಇದಲ್ಲದೆ, ಸೆಮಿಸೆರಾ ನTaC-ಲೇಪಿತ ಉತ್ಪನ್ನಗಳುಗೆ ಹೋಲಿಸಿದರೆ ಸುದೀರ್ಘ ಸೇವಾ ಜೀವನ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದ ಪ್ರತಿರೋಧವನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸುತ್ತದೆSiC ಲೇಪನಗಳು.ಪ್ರಯೋಗಾಲಯ ಮಾಪನಗಳು ನಮ್ಮ ಎಂಬುದನ್ನು ಪ್ರದರ್ಶಿಸಿವೆTaC ಲೇಪನಗಳುವಿಸ್ತೃತ ಅವಧಿಗೆ 2300 ಡಿಗ್ರಿ ಸೆಲ್ಸಿಯಸ್ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಸ್ಥಿರವಾಗಿ ಕಾರ್ಯನಿರ್ವಹಿಸಬಹುದು. ನಮ್ಮ ಮಾದರಿಗಳ ಕೆಲವು ಉದಾಹರಣೆಗಳನ್ನು ಕೆಳಗೆ ನೀಡಲಾಗಿದೆ:

 
0(1)
ಸೆಮಿಸೆರಾ ಕೆಲಸದ ಸ್ಥಳ
ಸೆಮಿಸೆರಾ ಕೆಲಸದ ಸ್ಥಳ 2
ಸಲಕರಣೆ ಯಂತ್ರ
ಸೆಮಿಸೆರಾ ವೇರ್ ಹೌಸ್
CNN ಸಂಸ್ಕರಣೆ, ರಾಸಾಯನಿಕ ಶುದ್ಧೀಕರಣ, CVD ಲೇಪನ
ನಮ್ಮ ಸೇವೆ

  • ಹಿಂದಿನ:
  • ಮುಂದೆ: